| |
 |
|
| |
|
| 어제 : 861 |
오늘 : 687 |
| 최대 : 1,349 |
전체 : 1,383,923 |
|
|
|
|
|
| |
 |
|
|
| |
|
|
| |
|
| [한국발명진흥회]제2차 해외출원비용지원사업 신청접수 공고 |
 |
|
| 글쓴이 : 홈지기
날짜 : 07-06-18 08:45
조회 : 1764
트랙백 주소 |
|
|
1. 사업개요
특허, 실용신안·디자인등록의 해외출원비용을 지원함으로써 국제출원을 촉진하고 국가경쟁력을
제고하기 위함
2. 지원분야대상
▒ 지원대상
ㅇ 우수기술부문
- 특허, 실용신안·디자인을 해외 출원한 개인, 중소기업, 대학, 정부출연연구소 및 국공립연구소(기관)
※ 지원대상기술은 신청일 기준 3년이내에 송금한 출원비용으로 함
ㅇ 핵심기술부문
- 특허, 실용신안·디자인을 해외 출원·등록한 대학, 정부출연연구소 및 국공립연구소(기관)
※ 지원대상기술은 직무발명으로서 신청일 기준 3년이내에 송금한 건 또는 국내출원이후 해외출원
예정인 건의 출원·등록비용으로 함
▒ 지원제외대상
ㅇ 동일인이 동일국가에 출원한 동일발명으로 이미 신청하여 수혜를 받은 건은 신청 불가
ㅇ 산업자원부의 특허경비지원사업 등 다른 정부부처 사업과 중복지원된 경우에는 신청불가
3. 지원조건내용
▒ 신청기간
2007년 6월 15일(금) ~ 7월 13일(금)
▒ 업체선정
ㅇ 심의기준 : 기술의 우수성을 기술성 및 사업성 위주로 평가
- 신청인의 자격요건
- 특허등록의 가능성(신규성,진보성)
- 특허기술의 우수성(기술의 경쟁력, 파급성, 독창성)
- 특허기술의 활용성(기술의 사업화 가능성, 상품의 시장성, 수출 유망성, 확산성)
- 디자인의 경우에는 디자인의 심미성 및 우수성(디자인의 독창성, 기능성 등)
▒ 세부내용
ㅇ 우수기술부문 : 출원비용 지원(사후지원)
- 출원건(국가)별로 1건당 300만원(고도기술은 600만원) 한도내에서 지원
- 신청인 1인에 대한 년간 보조금 지원건수는 개인 및 중소기업은 3건이내,
대학 및 연구기관은 10건 이내로 함
※ 국내 변리사에 대한 사건수임료, 등록비용 등은 지원대상에서 제외
※ 지원건수 한도내에서 동일기술로 다수국가(미국, 일본, 중국 등) 지원이 가능함
※ PCT를 통한 외국출원일 경우에는 국제단계에서는 지급하지 않고, 국내단계가 진행되었을 경우
국제단계 비용까지 소급하여 지급함
ㅇ 핵심기술부문 : 출원 및 등록비용 지원(사전지원 + 사후지원)
- 출원건(국가)별로 1건당 1,100만원 범위내에서([별표5]출원경비 지원기준 참조)
- 신청인 1인에 대한 년간 보조금 지원건수는 대학, 연구기관은 10건 이내로 함
4. 지원절차
신청서 접수
(IPC분류)
→
기술성 평가
(특허청)
→
선정위원회구성
및 심의
→
지원대상자 확정
및 통보
→
보조금 지급
(8.30 예정)
5. 신청방법
ㅇ 등기우편 또는 직접접수(접수마감일 등기우편발송 유효)
- 주 소 : (135-980) 서울 강남구 역삼동 647-9 한국지식재산센터 한국발명진흥회 18층
6. 신청서류
ㅇ 해외 출원·등록비용 지원 신청서(별지 제12호서식)
※ 신청서 첨부물을 참조하시기 바랍니다.
7. 문의처
ㅇ 한국발명진흥회 발명진흥사업화팀 해외출원비용지원사업담당자
- Tel : 02-3459-2846/2845, Fax : 02-3459-2858
8. 기타
ㅇ 구비서류중 누락이 있을 경우나 미비시 신청접수가 제외될 수 있음
ㅇ 신청자는 반드시 구비서류가 첨부되었는지 여부를 신청서 기재란에 표시후 제출할 것
ㅇ 신청서 접수시는 지원기술부문(우수 및 핵심기술)별로 구분하지 않고,
신청자격(개인,중소기업,대학,연구기관)만으로 구분접수
|
|
|
|
|
|
 |
|
|
|
|
